苏大维格：可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案

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2、包括微纳光学材料、MEMS产品、射频器件、滤波器件等产品的研发与制造，也可为今后裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片等研发和制备等方面，提供前沿性和实用性纳米光刻工具。

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