光刻技术简介(光刻技术)

 2023-09-25  阅读 44  评论 0

摘要:当前大家对于光刻技术都是颇为感兴趣的,大家都想要了解一下光刻技术,那么小美也是在网络上收集了一些关于光刻技术的一些信息来分享给大家,希望能够帮到大家哦。1、集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。2、随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技

当前大家对于光刻技术都是颇为感兴趣的,大家都想要了解一下光刻技术,那么小美也是在网络上收集了一些关于光刻技术的一些信息来分享给大家,希望能够帮到大家哦。

1、集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

2、随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。

3、光刻技术成为一种精密的微细加工技术。

本文到此结束,希望对大家有所帮助。

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